滨松光子学株式会社开发了一种具有低噪声和高增益的高性能 MCP,不含 RoHS 指令中列出的有害物质。
样品将于 2020 年 10 月 1 日起提供。

2020年09月29日

不含铅的 ALD-MCP

不含铅的 ALD-MCP

通过从头开始回顾所有材料并应用 ALD*(原子层沉积)技术,我们成功开发了 ALD-MCP(微通道板),可在不使用含铅材料的情况下确保低噪声和高信号倍增(增益)。消除铅是向前迈出的一大步,因为在欧盟 (EU) 发布的 RoHS 指令中,铅作为有害物质而被限制使用。ALD-MCP 可能取代目前使用的含铅 MCP,并作为高性能 MCP,适用于质谱仪和扫描电子显微镜 (SEM)。我们将从 2020 年 10 月 1 日(周四)开始提供 ALD-MCP 样品进行评估,目标是明年春季将其作为商业产品销售。


* ALD:原子层沉积 (Atomic Layer Deposition) 的简称。这是一种薄膜沉积技术,能够通过逐个形成原子层来精确地控制薄膜厚度和结构,并且广泛应用于半导体器件的制造中。