用途和测量示例 | 膜厚测量系统

膜厚测量系统的应用示例

半导体

晶圆表面的膜厚测定

准确测量各个步骤中应用或处理的光刻胶和其他薄膜的厚度,以确保均匀沉积。
我们的系统支持各种薄膜厚度和晶圆厚度。通过采用高辉度、短波长的光源,还可以精确测量超薄薄膜。

  • 金属氧化物涂层,例如 SiO2、SiC 薄膜、Si 薄膜、TiO2 等。
  • 氮化膜、湿态薄膜、抗蚀膜
  • 硅残留薄膜厚度、光盘、DLC、碳

沉积期间的原位测量

在沉积期间实时监测薄膜厚度,以确认厚度变化得到控制。
我们的系统安装单个光导,可实现节省空间的测量。它们采用光学系统,支持较长的工作距离,并在各种工艺中实现多功能膜厚测定。

  • 金属氧化物涂层,例如 SiO2和 Si

晶圆厚度测量

测量晶圆厚度,以确保加工步骤期间的均匀性和质量控制。
我们的系统只需一个单元,即可涵盖从 775 μm Si 晶圆到 10 μm 薄膜的宽范围。此外,60 Hz 高速测量可在加工期间实现实时监测。

  • SiO2、Si 薄膜、湿态薄膜
  • 硅残留薄膜厚度

其他

涂层薄膜、塑料薄膜和物体颜色测定

  • 抗反射膜、PET、涂层
  • PE、PMMA
  • 涂层薄膜、蒸发膜、功能膜
  • 银纳米线、丙烯酸树脂、视频磁头

平板的膜厚和颜色测定

  • 细胞间隙、有机 EL 薄膜、配向膜、TFT
  • 银纳米线、ITO、MgO、玻璃基板抗蚀膜、聚酰亚胺
  • 高性能薄膜、FPD 用彩色膜 

膜厚测量系统的测量示例

透明电极(ITO 薄膜:350 nm)的干涉光谱测量示例

分析的薄膜厚度为理论值,即理论波型和测量反射模式的最小RMS(均方根)值。

标准具(30 μm)的测量示例

图 1:标准具的测量 

图 2:图 1 的傅里叶变换 

标准氧化膜(400 nm)的测量示例

图案化晶圆/键合晶圆/原位监测示例(厚度测量数据)

晶圆上的薄膜厚度映射

使用滨松光子学株式会社的 HyperGauge 和 Optical Gauge 系列(选配映射载物台)精确测量整个晶圆厚度分布。我们根据您的应用和厚度要求提供最佳产品阵容。请联系我们获取更多信息。

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