在线湿法工艺浓度监测

在线湿法工艺浓度监测,实现半导体制造过程的精准控制

在线湿法工艺浓度监测涉及在光刻胶涂覆、蚀刻和氧化扩散等半导体制造过程中对化学浓度进行实时控制。近红外光谱分析可确保这些过程的质量和一致性。

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这种傅里叶变换型近红外光谱仪可单手携带。该光谱仪内置迈克耳孙光干涉仪和控制电路,通过 USB 连接至 PC,即可测量光谱和吸光度。

这款紧凑型光谱仪将光学系统、图像传感器和电路紧凑集于一体。这款光谱仪在近红外区域具有峰值灵敏度。

高信噪比 (SNR) 的 InGaAs 图像传感器增强了光纤耦合近红外光谱仪的性能,实现了远程放置和多成分分析。这项技术通过确保更佳化学成分、改善工艺控制和保持产品质量,防止了高昂的产量损失。

使用在线湿法工艺浓度监测的半导体制程

在光刻胶涂覆过程中进行精准的化学控制,可确保晶圆层均匀。在线湿法工艺浓度监测可保持溶液组成稳定,控制涂层厚度,确保涂层均匀附着。这种精准性对于光刻过程中的精准图案化至关重要。

在蚀刻过程中保持适当的浓度,对于精准去除材料至关重要。在线监测可确保蚀刻过程准确可控,促进晶圆均匀蚀刻,防止缺陷产生。

在氧化扩散薄膜沉积过程中进行在线监测,可控制氧化剂和杂质浓度,确保薄膜具有理想的厚度和电气特性。这种实时控制可确保薄膜质量,防止半导体器件性能出现影响性能的变化。

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